杯状纵磁触头设计参数对纵向磁场滞后时间的影响
刘志远，王仲奕，王季梅，修士新
西安交通大学电气工程学院，陕西西安710049
本文对杯状纵磁真空灭弧室触头的一些设计参数对间隙中纵向磁场滞后时间的影响进行了分析。用有限元法对杯状纵磁触头简化的轴对称模型涡流场进行的分析结果表明，开距从10mm 减小到1mm 时纵向磁场滞后时间线性增加；触头直径从75mm 减小到25mm 时纵向磁场滞后时间单调递减；触头片厚度从3mm 增加到6mm 时纵向磁场滞后时间线性增加；触头材料从CuCr50 变到CuCr25 时纵向磁场滞后时间增幅显著；杯臂厚度在5mm 到12mm 和杯高度从14mm 到24mm 范围内对纵向磁场滞后时间几乎没有影响。