杯状纵磁触头间隙中纵向磁场滞后时间的空间分布研究
刘志远，王仲奕，王季梅，修士新
西安交通大学电气工程学院，陕西西安710049
文对杯状纵磁真空灭弧室触头间隙中纵向磁场滞后时间的径向和轴向分布进行了分析。用有限元法对杯状纵磁触头简化的轴对称模型涡流场进行的分析结果表明，纵向磁场滞后时间沿径向减小，其分布形状象开口向下的抛物线的右半部，径向达到杯臂中某处时纵向磁场滞后时间为零，然后到触头边缘线性增加；纵向磁场滞后时间沿轴向分布的规律是，越靠近触头中心纵向磁场滞后时间沿轴向的变化越不显著，接近一条直线，越靠近触头边缘这种变化越显著，直至到达杯壁中间处形成不规则“正弦曲线”分布和触头边缘处纵向磁场滞后时间的开口朝上抛物线分布。在杯状纵磁真空灭弧室触头结构中，触头中心处电弧在电流过零时扩散受到的制约作用最显著，沿半径向触头边缘这种制约作用越来越小。